国际标准期刊号: 2161-0398
Sahbeni K、Sta I、Jlassi M、Kandyla M、Hajji M、Kompitsas M 和 Dimassi W
在这项工作中,采用低成本溶胶-凝胶旋涂技术在硅基板上生长 TiO2 薄膜。研究了退火温度对TiO2薄膜的结构、形貌和光学性能的影响。通过拉曼和傅里叶变换红外 (FTIR) 光谱研究了 TiO2 薄膜的结构特性。通过原子力显微镜 (AFM) 研究形态特性。通过光致发光(PL)和紫外-可见(UV-vis)光谱检查光学性质。