质谱与纯化技术杂志

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国际标准期刊号: 2469-9861

抽象的

均裂是甲基磺草酮及其光产物液相色谱/电喷雾电离四极杆飞行时间质谱分析的主要途径

Rajae Chahboune 和 Mohamed Sarakha

通过太阳光模拟器的激发研究了腐殖质诱导的甲基磺草酮的间接光化学降解。消失速率常数随着分子氧浓度的增加而增加。观察到三种主要副产物。它们都是由非芳香循环的解离产生的。对去质子化分子进行碰撞诱导解离串联质谱(CID-MS/MS),并利用碰撞能量的影响以及产物离子的元素组成来提出化学结构。SO2-Me 部分化学结构中的存在允许多种类型的均裂,导致自由基阴离子的形成。

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