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等离子体浸没离子注入 (PIII) 工艺 - 物理与技术

杜尚·古普塔

等离子体浸没离子注入 (PIII) 是一种多功能工艺技术，在材料工程和微电子加工领域有着广泛的应用。本文首先回顾了传统离子注入和等离子体浸没离子注入的历史概况，然后对它们进行了比较。然后，讨论了 PIII 技术的基本机制和在此类系统中开发的鞘层动力学物理原理，以及 PIII 过程中必要的等离子体规范。最后讨论了 PIII 系统的主要组成部分、这种有前途的工艺技术的现有趋势和未来前景。