纳米医学与生物治疗发现杂志
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抽象的

基于溶胶-凝胶的表面图案化

大卫·里亚塞托、席琳·特农和米歇尔·兰格

光刻是众所周知且经常使用的技术。然而，该技术主要用于块体材料或自然氧化物蚀刻，并且通常需要使用强酸或强碱的蚀刻步骤。由于这些原因，光刻法与玻璃或塑料等敏感基材不能很好地兼容。基于溶胶-凝胶路线，我们配制并优化了不同的全无机氧化物光刻胶。这些光致抗蚀剂可实现纳米级薄氧化物薄膜的单步光刻（即仅一个沉积步骤），并用溶剂或稀酸进行蚀刻。这种方法适合在玻璃或塑料基板顶部的相当大的表面上形成毫米至亚微米尺寸范围内的光栅。我们的光刻胶是通过将光敏螯合化合物集成到“经典”中制成的。溶胶-凝胶氧化物溶胶。这些光刻胶可以通过旋涂沉积在各种基材上，然后通过掩模进行曝光并选择性地清洗/蚀刻。一方面，研究了 TiO2 光刻胶用于具有空间润湿性对比的表面功能化。另一方面，研究了ZnO光刻胶用于ZnO纳米线的局部生长。会议将介绍合成原理。将介绍与工艺参数相关的所得表面的物理化学和形态特性。此外，还将展示潜在的应用 然后通过掩模进行曝晒并选择性地清洗/蚀刻。一方面，研究了 TiO2 光刻胶用于具有空间润湿性对比的表面功能化。另一方面，研究了ZnO光刻胶用于ZnO纳米线的局部生长。会议将介绍合成原理。将介绍与工艺参数相关的所得表面的物理化学和形态特性。此外，还将展示潜在的应用 然后通过掩模进行曝晒并选择性地清洗/蚀刻。一方面，研究了 TiO2 光刻胶用于具有空间润湿性对比的表面功能化。另一方面，研究了ZnO光刻胶用于ZnO纳米线的局部生长。会议将介绍合成原理。将介绍与工艺参数相关的所得表面的物理化学和形态特性。此外，还将展示潜在的应用 将介绍与工艺参数相关的所得表面的物理化学和形态特性。此外，还将展示潜在的应用 将介绍与工艺参数相关的所得表面的物理化学和形态特性。此外，还将展示潜在的应用